Cr Sputtering Target Hög renhet tunnfilm PVD-beläggning specialtillverkad
Krom
Video
Vanadium Sputtering Target Beskrivning
Krom är en hård, silverfärgad metall med en blå nyans.Pure Chromium har utmärkt duktilitet och hårdhet.Den har en densitet på 7,20 g/cm3, en smältpunkt på 1907 ℃ och en kokpunkt på 2671 ℃.Krom har extremt hög korrosionsbeständighet och låg oxidationshastighet även vid hög temperatur.Krommetallen skapas genom en aluminiumtermisk process från kromoxid eller elektrolytisk process med ferrokrom eller kromsyra.
Förstoftningsmål av hög renhet av krom skulle kunna användas för allmänna applikationer.Beläggningarna som avsatts av krommål uppvisar stor styrka och slitstyrka.
Vi skulle kunna leverera krom i olika renheter
| Puritet | Impurity(ppm)≤ | ||||||
| Fe | Si | Al | C | N | O | S | |
| 99.2 | 3000 | 2500 | 2000 | 200 | 500 | 2000 | 100 |
| 99.5 | 2000 | 2000 | 1200 | 200 | 500 | 1500 | 100 |
| 99.7 | 1200 | 1000 | 1000 | 200 | 300 | 1200 | 100 |
| 99.8 | 1000 | 800 | 600 | 200 | 200 | 1000 | 100 |
| 99.9 | 500 | 200 | 300 | 150 | 100 | 500 | 50 |
| 99,95 | 200 | 100 | 100 | 100 | 100 | 300 | 50 |
Chromium Sputtering Target Application
Kromsputtermål används i många vakuumtillämpningar såsom beläggningar av bilglas, tillverkning av fotovoltaiska celler, batteritillverkning, bränslecell och dekorativa och korrosionsbeständiga beläggningar.Kromförstoftningsmål används för CD-ROM, tunnfilmsdeponeringsdekoration, platta skärmar, funktionell beläggning lika snyggt som annan industri för optisk informationslagring, etc.
Målförpackning för kromförstoftning
Vårt kromsputtermål är tydligt märkt och märkt externt för att säkerställa effektiv identifiering och kvalitetskontroll.Stor försiktighet vidtas för att undvika skador som kan uppstå under lagring eller transport.
Få kontakt
RSM:s kromförstoftningsmål är av ultrahög renhet och enhetliga.De finns i olika former, renheter, storlekar och priser.Vi är specialiserade på att producera högrena tunnfilmsbeläggningsmaterial med utmärkt prestanda samt högsta möjliga densitet och minsta möjliga genomsnittliga kornstorlekar för användning i formbeläggning、dekoration、bildelar、låg-E-glas、halvledarintegrerad krets、tunn film motstånd、grafisk display、aerospace、 magnetisk inspelning、pekskärm、tunnfilmssolbatteri och andra fysiska ångdepositionsapplikationer (PVD).Skicka oss en förfrågan för aktuell prissättning på sputtermål och annat deponeringsmaterial som inte är listat.
