Partihandel FeCoTa Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made Tillverkare och leverantör |Rik

Järnkobolttantal

FeCoTa Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made Featured Image

Kort beskrivning:

Kategori	Alloy Sputtering Target
Kemisk formel	FeCoTa
Sammansättning	Järnkobolttantal
Renhet	99,9 %, 99,95 %, 99,99 %
Form	Plattor, kolumnmål, bågkatoder, specialtillverkade
Produktionsprocess	Vakuumsmältning, PM
Tillgänglig storlek	L≤200mm, B≤200mm

Skicka e-post till oss

Produktdetalj

Produkttaggar

Järnkobolt Tantalmål är vanligtvis tillgängliga i cirkulär form och kritiska tunnfilmsmaterial av vertikala magnetiska inspelningsmedia.Den avsevärda mängden tantal som finns i legeringen skulle resultera i segregering och närvarande olösta partiklar.Vi använder en unik produktionsmetod som kan säkerställa homogeniteten i mikrostrukturen och förbättra materialens mekaniska egenskaper.

Produktnamn		FeCoTa
Fe/vikt%		Balans	Balans	Balans
Co/wt%		21,6±0,5	21,9±0,5	20,2±0,5
Ta/vikt%		41,1±0,8	39,4±0,8	44,3±0,8
Innehåll av metallföroreningar(ppm)	Ni	≤100	≤100	≤100
	Al	≤300	≤300	≤300
	Si	≤200	≤200	≤200
Gasföroreningsinnehåll(ppm)	C	≤200	≤200	≤200
	N	≤100	≤100	≤100
	O	≤600	≤600	≤600
	S	≤75	≤75	≤75

Rich Special Materials specialiserar sig på tillverkning av Sputtering Target och kan producera järnkobolt Tantal Sputtering Material enligt kundernas specifikationer.Kontakta oss för mer information.

Tidigare: FeCo Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made

Nästa: FeSi Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made