Med utvecklingen av elektronisk informationsindustri överförs högteknologiska material gradvis från plåt till tunn film, och beläggningsanordningar utvecklas snabbt.Målmaterial är ett speciellt elektroniskt material med högt mervärde, och det är källan till sputtering av tunnfilmsmaterial.Som grundmaterialet för utvecklingen av icke-metallisk filmindustri har keramiskt målmaterial utvecklats utan motstycke och marknadsskalan för målmaterial växer dag för dag.
Det finns två typer av keramiska mål:
(1) Beroende på den kemiska sammansättningen kan den delas in i oxidkeramiskt mål, silicidkeramiskt mål, nitridkeramiskt mål, fluoridkeramiskt mål och sulfidkeramiskt mål, etc. Den plana displayen ITO-keramiska mål har i stor utsträckning producerats och applicerats i Kina.Keramiska mål för högdielektriska isoleringsfilmer och keramiska mål med gigantisk magnetoresistans har breda användningsmöjligheter.
(2) Enligt applikationen kan den delas in i halvledarassocierade keramiska mål, displaykeramiska mål, magnetiska inspelnings keramiska mål, optiska inspelnings keramiska mål, supraledande keramiska mål, jättemagnetoresistans keramiska mål, etc.
Keramiska mål i den befintliga komplexa elektroniska produkttillverkning, står bara för en liten del av tekniken, men har spelat rollen som informationsindustrin grundläggande pilotmaterial.Inhemska keramiska plan mål främst välja sintring och bindning process, kan producera den maximala längden på 600 mm, den maximala bredden på 400 mm, den maximala tjockleken på 30 mm, filé, fasning, steg och annan specialformad bearbetning enligt kundens krav.Med den snabba utvecklingen av Kinas elektroniska informationsindustri ökar efterfrågan på keramiska sputteringsmål år för år.I framtiden är forskning och utveckling av keramiska sputtermål ett viktigt ämne för Kinas målleverantörer.
Posttid: 22 juli 2022