Målmaterialet som används i datalagringsindustrin kräver hög renhet, och föroreningar och porer måste minimeras för att undvika generering av föroreningspartiklar under sputtering.Målmaterialet som används för högkvalitativa produkter kräver att dess kristallpartikelstorlek måste vara liten och enhetlig och inte ha någon kristallorientering.Nedan, låt oss ta en titt på kraven från den optiska lagringsindustrin för målmaterialet?
1. Renhet
I praktiska tillämpningar varierar renheten hos målmaterial beroende på olika branscher och krav.Emellertid, totalt sett, ju högre renhet målmaterialet är, desto bättre prestanda för den förstoftade filmen.Till exempel, i den optiska lagringsindustrin krävs att målmaterialets renhet är större än 3N5 eller 4N
2. Orenhetsinnehåll
Målmaterialet tjänar som katodkälla vid sputtering, och föroreningar i det fasta materialet och syre och vattenånga i porerna är de huvudsakliga föroreningskällorna för avsättning av tunna filmer.Dessutom finns särskilda krav på mål av olika användningsområden.Om man tar den optiska lagringsindustrin som ett exempel, måste föroreningshalten i sputtermål kontrolleras mycket lågt för att säkerställa kvaliteten på beläggningen.
3. Kornstorlek och storleksfördelning
Vanligtvis har målmaterialet en polykristallin struktur, med kornstorlekar som sträcker sig från mikrometer till millimeter.För mål med samma sammansättning är förstoftningshastigheten för finkorniga mål snabbare än för grovkorniga mål.För mål med mindre kornstorleksskillnader blir den avsatta filmtjockleken också mer enhetlig.
4. Kompakthet
För att minska porositeten i det fasta målmaterialet och förbättra filmens prestanda krävs det i allmänhet att sputtringsmålmaterialet har en hög densitet.Målmaterialets densitet beror huvudsakligen på beredningsprocessen.Målmaterialet som tillverkas genom smält- och gjutmetoden kan säkerställa att det inte finns några porer inuti målmaterialet och att densiteten är mycket hög.
Posttid: 2023-jul-18