Med den ökade efterfrågan på marknaden uppdateras ständigt fler och fler typer av sputteringsmål.Vissa är bekanta och andra är obekanta för kunderna.Nu skulle vi vilja dela med dig av vilka typer av magnetronsputtermål som finns.
Sputtringsmål har följande typer: metallförstoftande beläggningsmål, legeringsförstoftningsmål, keramiskt förstoftningsbeläggningsmål, boridkeramiskt förstoftningsmål, karbidkeramiskt sputtermål, fluoridkeramiskt förstoftningsmål, nitridkeramiskt förstoftningsmål, oxidkeramiskt mål, selenidkeramiskt förstoftningsmål , keramiskt förstoftningsmål av silicid, keramiskt förstoftningsmål för sulfid, keramiskt förstoftningsmål för tellurid, andra keramiska mål, Kromdopad keramiskt mål av kiseloxid (CR SiO), indiumfosfidmål (INP), blyarsenidmål (pbas), indiumarsenidmål (InAs) ).
Magnetronförstoftning är generellt uppdelad i två typer: DC-förstoftning och RF-förstoftning.Principen för DC-förstoftningsutrustning är enkel, och dess hastighet är också snabb vid sputtering av metall.RF-sputtering används ofta.Förutom att sputtera ledande data kan den även sputtera icke-ledande data.Samtidigt utför förstoftningsmålet också reaktiv förstoftning för att framställa sammansatta data såsom oxider, nitrider och karbider.Om RF-frekvensen ökar kommer det att bli mikrovågsplasmaförstoftning.För närvarande används vanligen elektroncyklotronresonans (ECR) mikrovågsplasmaförstoftning.
Posttid: 18 maj 2022