Målmaterial för metallförstoftning, beläggningsmaterial för förstoftning av beläggningslegeringar, beläggningsmaterial för förstoftning av keramiskt förstoftande, målmaterial för boridförstoftning, målmaterial för förstoftning av karbid, keramiskt målmaterial för förstoftning av fluorid, keramiskt målmaterial för förstoftning av nitrid, keramiskt mål för oxid, keramiskt målmaterial för förstoftning av selenid, Silicidkeramiskt sputtermålmaterial, sulfidkeramiskt sputtermålmaterial, Telluridkeramiskt sputtermål, annat keramiskt mål, kromdopat kiseloxidkeramiskt mål (CR-SiO), indiumfosfidmål (InP), blyarsenidmål (PbAs), indiumarsenid mål (InAs).
Målmaterial för sputtering med hög renhet och hög densitet är:
Sputtring av målmaterial (renhet: 99,9%-99,999%)
1. Metallmål:
Nickelmål, Ni, Titanmål, Ti, zinkmål, Zn, krommål, Cr, magnesiummål, Mg, Niobmål, Nb, Tennmål, Sn, aluminiummål, Al, Indiummål, In, Järnmål, Fe, Zirkoniumaluminiummål, ZrAl, Titaniumaluminiummål, TiAl, Zirkoniummål, Zr, aluminium-kiselmål, AlSi, kiselmål, Si, kopparmål Cu, tantalmål T, A, Germaniummål, Ge, silvermål, Ag, kobolt mål, Co, guldmål, Au, gadoliniummål, Gd, lantanmål, La, yttriummål, Y, ceriummål, Ce, volframmål, W, mål av rostfritt stål, nickel-krommål, NiCr, hafniummål, Hf, molybdenmål, Mo, Fe-Ni mål, FeNi, volframmål, W, etc.
2. Keramiskt målmaterial
ITO-målmål, järnoxid, magnesiumoxidmål, mål, mål, kiselkarbid kiselnitrid titannitridmålmål, mål, zinksulfid, zinkoxid, kromoxid, kiseldioxid, mål, mål, mål ett kiseloxid, ceriumoxidmål, mål, fem zirkoniumdioxid syre HuaEr niob mål mål, mål, titandioxid, zirkonium dioxid, hafnium mål, mål, titandiborid diborid zirkonium mål, volfram trioxid mål, aluminium trioxid mål tantal pentaoxid, niob pentaoxid mål, yttriumfluorid mål, yttriumfluorid mål mål, zinkselenidmål, aluminiumnitridmål, kiselnitridmål, bornitridmål, titannitridmål, kiselkarbidmål, litiumniobatmål, praseodymtitanatmål, bariumtitanatmål, lantantitanatmål, nickeloxidmål, sputtermål, etc. .
Posttid: 2022-05-05