Vakuumplätering vid valet av sputtrande målmaterial har varit ett problem för människor för närvarande, eftersom sputtringsbeläggningen, särskilt utvecklingen av magnetronförstoftningsbeläggningsförmågan, kan sägas för all information för att kunna rikta materialberedning av tunna filmer genom jonbombardement, eftersom genom att förstofta målmaterial i processen för beläggningen till typen av substrat, har en viktig effekt på kvaliteten på förstoftningsfilmen. Därför är kraven på målmaterial strängare.Här kommer vi att lära oss om sputtermålets roll i vakuumbeläggning tillsammans med redaktören för Beijing Relaxation
一、Urvalsprincip och klassificering av målmaterial
Vid valet av målmaterial bör, förutom användningen av själva filmen väljas, följande problem också beaktas:
Problem 1. Enligt membranets användning och prestandakrav är det nödvändigt att målmaterialet uppfyller de tekniska kraven på renhet, magasininnehåll, komponentens enhetlighet, bearbetningsnoggrannhet och så vidare.
Problem 2. Målmaterialet bör ha god mekanisk hållfasthet och kemisk stabilitet efter filmbildning;
Problem 3. Det är nödvändigt för filmmaterialet att enkelt generera sammansatt film med reaktionsgasen som den reaktiva förstoftningsfilmen;
Problem 4. Det är nödvändigt att ställa in målet och matrisen så att de är starka, annars bör filmmaterialet med god vidhäftning till matrisen antas, först sputterra ett lager av bottenfilm och förbered sedan det erforderliga filmskiktet;
Fråga 5. Med förutsättningen att filmens prestandakrav ska uppfyllas, ju mindre skillnaden är mellan den termiska expansionskoefficienten för målet och matrisen, desto bättre, för att minska inverkan av den termiska spänningen hos sputterfilmen;
Förberedelse av flera vanliga mål
(1) cr mål
Krom som ett sputterfilmmaterial är inte bara lätt att kombinera med basmaterialet har hög vidhäftning, och krom och oxid CrQ3-film, dess mekaniska egenskaper, syrabeständighet och termisk stabilitet är bättre.
Beijing Ruichi High-tech Co., Ltd. är huvudsakligen engagerat i: titanmål zirkoniummål, aluminiummål, nickelmål, krommål, volframmål, molybdenmål, kopparmål, kiselmål, niobmål, tantalmål, titan-kisellegeringar mål, titan-nioblegeringsmål, titan-volframlegeringsmål, titan-zirkoniumlegeringsmål, nickel-kromlegeringsmål, kiseldioxid-aluminiumlegeringsmål, nickel-vanadinlegeringsmål, krom-aluminium-kisel ternär legeringsmål, Ti al si ternärt legerat målmaterial, ofta använt i dekoration / hård yta och funktionell beläggning, arkitektoniskt glas, platt display / optisk fotoelektrisk, optisk lagring, elektronik, tryckning och andra yrken.
Posttid: 2022-02-02