Vi vet alla att det finns många specifikationer för sputtermål,som har awett brett användningsområde.Tmålsorter som vanligtvis används i olika branscher är också olika, låt oss komma idag med PekingRichmat tillsammans för att lära dig om klassificeringen av sputtermålsindustrin.
一,Definition av sputtrande målmaterial
Sputtering är en av huvudteknikerna för att förbereda tunnfilmsmaterial.Den använder joner som genereras av jonkällan för att bilda jonstråle med höghastighetsenergi genom accelererad aggregation i vakuum. Bombarderade fasta ytor, joner och fasta ytatomer har kinetisk energiutbyte, så att atomerna på den fasta ytan lämnar den fasta ytan och avsätts på substratytan, det bombarderade fasta materialet är råmaterialet för att förbereda den sputtrande deponerade filmen, känd som sputtermålet.
二,Applikationsfältsklassificering av sputtrande målmaterial
1、Halvledarmål
(1)Vanligt använt material:Vanliga mål inom detta område inkluderar tantal, koppar, titan, aluminium, guld, nickel och andra metaller med hög smältpunkt.
(2)Användande:Använd i grund och botten på de avgörande originaldata för integrerad krets
(3)Funktionskrav:De tekniska kraven på renhet, storlek, integration är höga.
2,Målmaterial för plan visning
(1)Vanligt använt material:Mål som vanligtvis används inom detta område inkluderar aluminium/koppar/molybden/nickel/niob/kisel/krom, etc.
(2)Användande:Denna typ av målmaterial används huvudsakligen i olika typer av storarea filmer av TV och bärbara datorer.
(3)Funktionskrav:Höga krav på renhet, stor yta, enhetlighet och så vidare.
3、Mål för solceller
(1)Vanligt använt material:Aluminium/koppar/molybden/krom/ITO/Ta-mål används ofta i solceller.
(2)Användande:Används främst i "fönsterlager", barriärlager, elektrod och ledande film och andra tillfällen.
(3)Funktionskrav:Högt skicklighetskrav, brett användningsområde.
4、Målmaterial för informationslagring
(1)Vanligt använt material:Informationslagring ofta använda kobolt/nickel/ferrolegering/krom/tellur/selen målmaterial.
(2)Användande:Målmaterialet här används främst för huvudet, mellanskiktet och bottenskiktet på cd-rom och cd.
(3)Funktionella krav:Hög lagringstäthet och hög överföringshastighet krävs.
5、Målmaterial för verktygsmodifiering
(1)Vanligt använt material:Verktygsmodifiering av titan/zirkonium/gitter/krom-aluminiumlegering och andra mål.
(2)Användande:Det används vanligtvis för att förbättra utseendet.
(3)Funktionskrav:Höga funktionskrav, lång livslängd.
6、Målmaterial för elektroniska enheter
(1)Vanligt använt material:Aluminiumlegeringar/silicidmål används ofta i elektroniska enheter
(2)Användande:Används vanligtvis för filmmotstånd och kondensatorer.
(3)Funktionskrav:Liten storlek, stabilitet, låg resistanstemperaturkoefficient
Posttid: 2022-apr-21