Grossist NiFe Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made tillverkare och leverantör |Rik

Nickeljärn

NiFe Sputtering Target Hög renhet tunnfilm Pvd-beläggning Custom Made Featured Image

Kort beskrivning:

Kategori	Alloy Sputtering Target
Kemisk formel	NiFe
Sammansättning	Nickeljärn
Renhet	99,9 %, 99,95 %, 99,99 %
Form	Plattor, kolumnmål, bågkatoder, specialtillverkade
Produktionsprocess	Vakuumsmältning, PM
Tillgänglig storlek	L≤2000mm, B≤300mm

Skicka e-post till oss

Produktdetalj

Produkttaggar

Video

Nickel Iron Sputtering Target Beskrivning

Nickel Iron Sputtering Target tillverkas med hjälp av vakuumsmältning, gjutning och PM.Den har en mycket hög magnetisk permeabilitet vid låg fältstyrka.
Ett nickeljärnmål (Nickel>30 vikt%) visar den ansiktscentrerade kubiska strukturen vid rumstemperatur.Konventionellt har nickeljärnsmål mer än 36 % sammansättning av nickel och kan delas in i fyra kategorier: 35 %–40 % Ni-Fe, 45 %–50 % Ni-Fe, 50 %–65 % Ni-Fe och 70 % ～81 % Ni-Fe.Var och en kan göras till material med cirkulära, rektangulära eller plana magnetiska hysteresöglor.
Förstoftningsmål för nickeljärn (Ni-Fe) används i ett brett spektrum av applikationer, till exempel magnetiska lagringsmedia och EMI-avskärmande enheter.

Nickel Järn Sputtering Target Packaging

Vårt nickeljärnsputtermål är tydligt märkt och märkt externt för att säkerställa effektiv identifiering och kvalitetskontroll.Stor försiktighet vidtas för att undvika skador som kan uppstå under lagring eller transport.

Få kontakt

RSM:s nickeljärnsförstoftningsmål är av ultrahög renhet och enhetlig.De finns i olika former, renheter, storlekar och priser.Vi kunde leverera renhet 99,99% och våra typiska kompositioner: Ni-Fe10at%, N-iFe16at%, Ni-Fe19at%, Ni-Fe20at%, Ni-Fe36at%, Ni-Fe50at%, Ni-Fe70at%.
Vi är specialiserade på att producera högrena tunnfilmsbeläggningsmaterial med utmärkt prestanda samt högsta möjliga densitet och minsta möjliga genomsnittliga kornstorlekar för användning i formbeläggning、dekoration、bildelar、låg-E-glas、halvledarintegrerad krets、tunn film motstånd、grafisk display、aerospace、 magnetisk inspelning、pekskärm、tunnfilmssolbatteri och andra fysiska ångdepositionsapplikationer (PVD).Skicka oss en förfrågan för aktuell prissättning på sputtermål och annat deponeringsmaterial som inte är listat.